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个人信息Personal Information
教授
博士生导师
硕士生导师
性别：男
毕业院校：大连理工大学
学位：博士
所在单位：机械工程学院
学科：机械制造及其自动化
办公地点：机械工程学院高性能制造研究所#5015室
联系方式：
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Double-Oxidant-Induced Slurry Reaction Mechanism and Performance on Chemical Mechanical Polishing of 4H-SiC (0001) Wafer
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论文类型：期刊论文
论文编号：471124
发表时间：2024-12-06
发表刊物：LANGMUIR
卷号：40
期号：50
页面范围：26779-26788
ISSN号：0743-7463
关键字：CMP; COLLOIDAL SILICA; DECOMPOSITION; GROWTH; ION; REMOVAL RATE; SAPPHIRE; SIZES; SUBSTRATE; SURFACE