高尚
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个人信息Personal Information
教授
博士生导师
硕士生导师
性别：男
毕业院校：大连理工大学
学位：博士
所在单位：机械工程学院
学科：机械制造及其自动化
办公地点：机械工程学院高性能制造研究所#5015室
联系方式：
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Mechanistic insights into the synergistic effect of oxidizers and abrasives in chemical mechanical polishing of 4H-SiC wafer
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论文类型：期刊论文
论文编号：482095
发表时间：2025-10-18
发表刊物：CERAMICS INTERNATIONAL
卷号：51
期号：25
页面范围：43649-43664
ISSN号：0272-8842
关键字：CMP; COLLOIDAL SILICA; OXIDATION; PERFORMANCE; REMOVAL MECHANISMS; SAPPHIRE; XPS