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    高飞

    • 教授     博士生导师 硕士生导师
    • 主要任职：集成电路学院党委书记
    • 性别：男
    • 毕业院校：大连理工大学
    • 学位：博士
    • 所在单位：集成电路学院
    • 学科：等离子体物理
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    专利

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    提高等离子体径向均匀性的等离子体腔室

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      专利名称：提高等离子体径向均匀性的等离子体腔室

      第一作者：高飞

      发明设计人：王友年

      申请号：CN201610962640.X

      授权日期：2016-11-04

      授权号：CN106298425A

      发布时间：2019-10-15


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