黄正兴
个人信息Personal Information
副教授
硕士生导师
性别:男
毕业院校:大连理工大学
学位:博士
所在单位:控制科学与工程学院
电子邮箱:huangzx@dlut.edu.cn
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高压下碳纳米管阵列与金属接触热阻研究
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论文类型:期刊论文
发表时间:2017-01-01
发表刊物:大连理工大学学报
收录刊物:CSCD、Scopus
卷号:57
期号:6
页面范围:638-643
ISSN号:1000-8608
关键字:热界面材料;碳纳米管阵列;接触热阻;瞬态热反射测试
摘要:碳纳米管具有很高的轴向热导率,近年来基于碳纳米管阵列的热界面材料得到了广泛的关注.但碳纳米管阵列与金属间的接触热阻较大,通常在10 mm2·K/W以上,限制了其实际应用.目前通过化学成键等方法可将其界面热阻降至0.6 mm2·K/W,但这些方法都需要牺牲碳纳米管耐高温的特点.为保证其耐高温特性,通过施加压力的方法降低了碳纳米管阵列与金属间的接触热阻.对于高度为800μm的碳纳米管阵列,当压力为1.49 MPa时,测量得到的碳纳米管阵列-Au界面接触热阻为1.90~3.51 mm2·K/W,接近化学成键法的结果并且远小于小压力作用下的热阻,这一结果为进一步减小碳纳米管的接触热阻提供了新的思路.