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个人信息Personal Information
工程师
性别：男
毕业院校：大连理工大学
学位：硕士
所在单位：集成电路学院
电子邮箱：lyang@dlut.edu.cn
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Study of the thermal stability of the H-related donors in high resistivity ZnO:Cu thin films by high-pressure H-2 treatment
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发表时间：2022-10-08
发表刊物：CHEMICAL PHYSICS LETTERS
卷号：579
页面范围：90-93
ISSN号：0009-2614