|
个人信息Personal Information
工程师
性别：男
毕业院校：大连理工大学
学位：硕士
所在单位：集成电路学院
电子邮箱：lyang@dlut.edu.cn
扫描关注
A preliminary study of SF6 based inductively coupled plasma etching techniques for beta gallium trioxide thin film
点击次数：
发表时间：2022-10-05
发表刊物：MATERIALS SCIENCE IN SEMICONDUCTOR PROCESSING
所属单位：微电子学院
卷号：39
页面范围：582-586
ISSN号：1369-8001