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周大雨
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教授   博士生导师   硕士生导师

性别:男

毕业院校:德国卡尔斯鲁厄工业大学

学位:博士

所在单位:材料科学与工程学院

学科:材料物理与化学
微电子学与固体电子学

办公地点:辽宁省大连市高新园区凌工路2号
大连理工大学材料科学与工程学院
知远楼A415

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Comparative study on the influence mechanism of He/Ar/N2 plasma treatments on the high tensile stress of a multilayer silicon nitride film

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发布时间:2026-03-17

论文类型:期刊论文

论文编号:478186

发表时间:2025-05-29

发表刊物:RSC ADVANCES

卷号:15

期号:23

页面范围:17875-17884

关键字:CHANNEL; CHEMICAL-VAPOR-DEPOSITION; ENHANCEMENT; IMPACT; RESIDUAL-STRESS; THIN-FILMS

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