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个人信息Personal Information
教授
博士生导师
硕士生导师
性别：男
毕业院校：德国卡尔斯鲁厄工业大学
学位：博士
所在单位：材料科学与工程学院
学科：材料物理与化学. 微电子学与固体电子学
办公地点：辽宁省大连市高新园区凌工路2号
大连理工大学新三束实验室412
电子邮箱：
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Comparative study on the influence mechanism of He/Ar/N2 plasma treatments on the high tensile stress of a multilayer silicon nitride film
点击次数：
论文类型：期刊论文
论文编号：478186
发表时间：2025-05-29
发表刊物：RSC ADVANCES
卷号：15
期号：23
页面范围：17875-17884
关键字：CHANNEL; CHEMICAL-VAPOR-DEPOSITION; ENHANCEMENT; IMPACT; RESIDUAL-STRESS; THIN-FILMS