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论文类型：期刊论文

发表时间：2016-06-30

发表刊物：机电技术

期号：3

页面范围：117-121

ISSN号：1672-4801

关键字：干膜;喷墨腔室;光刻

摘要：描述了一种基于干膜层压技术和光刻技术的制作SU-8干膜喷墨腔室的工艺方法：光刻SU-8胶得到开放腔室并使用氧等离子体处理，将PDMS（Polydimethylsiloxane）上的SU-8干膜层压在开放腔室上，使用光刻技术在干膜层上制作出喷孔，从而得到完整的喷墨腔室。该技术简化了喷墨腔室的制作工艺、缩短了制作周期并且只需要常规设备。文章建立了喷墨腔室结构模型，数值仿真模拟了喷墨过程，优化确定了SU-8干膜喷孔板的厚度。分析了层压参数如层压温度和干膜厚度对键合率和通孔率的影响。使用氧等离子体处理工艺提高干膜的键合强度，优化了等离子体射频功率和处理时间。最后对制作的喷墨腔室进行了键合强度测试。