邹赫麟

个人信息Personal Information

教授

博士生导师

硕士生导师

性别:男

毕业院校:威尔大学

学位:博士

所在单位:机械工程学院

学科:微机电工程

办公地点:机械工程学院2号楼214-2

联系方式:办公电话:0411-84709754

电子邮箱:zouhl@dlut.edu.cn

扫描关注

论文成果

当前位置: 中文主页 >> 科学研究 >> 论文成果

纳米硅薄膜低温光致发光

点击次数:

论文类型:期刊论文

发表时间:1998-01-01

发表刊物:固体电子学研究与进展

收录刊物:PKU、CSCD

卷号:18

期号:1

页面范围:38

ISSN号:1000-3819

关键字:纳米硅薄膜; 光致发光; 化学气相淀积; 等离子体

摘要:以高氢稀释硅烷为反应气源,用PECVD方法淀积了nc-Si:H薄膜。未经任何后处理过程,在低温77K下观察到光致发光,并对薄膜样品进行了Raman散射,红外吸收谱,氢氧含量以及光学吸收系数分析测试。还对nc-Si:H薄膜低温光致发光的机理进行了讨论。