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个人信息Personal Information
教授
博士生导师
硕士生导师
性别：男
毕业院校：威尔大学
学位：博士
所在单位：机械工程学院
学科：微机电工程
办公地点：机械工程学院2号楼214-2
联系方式：办公电话：0411-84709754
电子邮箱：zouhl@dlut.edu.cn
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锗硅分子束外延层与衬底界面的电镜研究
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论文类型：期刊论文
发表时间：1996-01-01
发表刊物：大连理工大学学报
收录刊物：PKU、CSCD
卷号：36
期号：2
页面范围：170
ISSN号：1000-8608
关键字：分子束外延; 位错/热退火; 热松驰
摘要：使用分子束外延（ＭＢＥ）技术制备了应变锗硅外延薄膜，并在不同温度下对样品等时热退火处理；采用侧面透射电子显微镜（ＸＴＥＭ）对退火样品进行观测，获得有关高温退火后锗硅外延层与硅衬底界面的位错生长情况，采用高分辨电子显微镜（ＨＲＥＭ）观测样品退火以前的界面显微结构，表明样品在８５０℃退火温度时出现的位错生长是一种混合型热松弛机理．