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Indexed by:期刊论文

Date of Publication:1995-01-01

Journal:计算物理

Included Journals:PKU、CSCD

Volume:12

Issue:4

Page Number:528

ISSN No.:1001-246X

Key Words:等离子体源离子注入; 鞘层; 数值模拟

Abstract:在等离子体源离子注入装置中（ＰＳＩＩ），靶被直接放入均匀等离子体源中，并在其上加负高压脉冲，从而使靶的周围形成了一个只存在离子的等离子体鞘层，离子以较高速度注入靶中。利用冷流体方程和泊松方程组成的非线性方程组对一维平面几何鞘层时空演化过程进行数值模拟，所采用的负高电势脉冲波形为方波和梯形波，得到了电子密度、离子密度、电势分布的时空演化曲线，并首次对梯形波下降沿时间内鞘层时空演化作了详细讨论。