AZO薄膜作缓冲层对InN低温沉积的影响
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Indexed by: Conference Paper
Date of Publication: 2011-05-17
Page Number: 2
Key Words: AZO;InN;低温沉积;缓冲层;择优取向;玻璃衬底;原子力显微镜;电子回旋共振;晶格失配;结晶性;
Abstract: 利用电子回旋共振-等离子增强金属有机物化学气相沉积(ECR-PEMOCVD)方法,在AZO薄膜(ZnO:Al)作缓冲层的玻璃衬底上采用两步法低温沉积了呈高度C轴择优取向的InN薄膜。利用反射高能电子衍射(RHEED)、X射线衍射(XRD)、原子力显微镜