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Indexed by:期刊论文

Date of Publication:2007-12-15

Journal:纳米技术与精密工程

Included Journals:EI、ISTIC、CSCD、Scopus

Volume:5

Issue:4

Page Number:323-326

ISSN No.:1672-6030

Key Words:SU-8胶;内应力;正交实验;BP神经网络

Abstract:以薄膜内应力为指标,对SU-8负性光刻胶的工艺参数进行了优化.根据基片曲率法的原理,通过三因素三水平的正交实验,测量了9组不同工艺条件下SU-8胶层内应力的大小.引入模糊神经网络,对影响SU-8胶内应力的工艺参数进行了优化仿真研究.以正交实验数据为样本,对模糊神经网络进行训练,建立了SU-8胶内应力的大小与前烘温度、曝光剂量和后烘温度3个主要参数之间的预测模型.同时对网络预测结果进行了实验验证,两者结果基本吻合.利用网络优化结果,有效地降低了胶层内应力.