Release Time:2019-03-10  Hits:

Indexed by: Journal Article

Date of Publication: 2007-12-15

Journal: 纳米技术与精密工程

Included Journals: Scopus、CSCD、ISTIC、EI

Volume: 5

Issue: 4

Page Number: 323-326

ISSN: 1672-6030

Key Words: SU-8胶;内应力;正交实验;BP神经网络

Abstract: 以薄膜内应力为指标,对SU-8负性光刻胶的工艺参数进行了优化.根据基片曲率法的原理,通过三因素三水平的正交实验,测量了9组不同工艺条件下SU-8胶层内应力的大小.引入模糊神经网络,对影响SU-8胶内应力的工艺参数进行了优化仿真研究.以正交实验数据为样本,对模糊神经网络进行训练,建立了SU-8胶内应力的大小与前烘温度、曝光剂量和后烘温度3个主要参数之间的预测模型.同时对网络预测结果进行了实验验证,两者结果基本吻合.利用网络优化结果,有效地降低了胶层内应力.