Release Time:2019-03-10  Hits:

Indexed by: Journal Article

Date of Publication: 2015-04-20

Journal: 电加工与模具

Included Journals: ISTIC

Issue: 2

Page Number: 29-32,37

ISSN: 1009-279X

Key Words: UV-LIGA;微坑阵列;电化学刻蚀;酸洗

Abstract: 采用负胶光刻工艺制备了微坑阵列胶模，通过实验分析了抛光工艺对刻蚀均匀性的影响，解决了微坑阵列刻蚀缺陷的问题。研究了酸洗对基板刻蚀的影响，得出酸洗可改善刻蚀均匀性的结论，并通过调节溶液pH值的方法解决了溶液沉淀的问题。分析了掩膜孔径对刻蚀均匀性的影响，并利用自行搭建的电化学刻蚀装置完成了直径60μm、深11μm的微坑阵列刻蚀。实验结果验证了掩膜电化学刻蚀工艺的可行性，为金属表面微小图形的制作提供了一种可行的方案。