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Indexed by:期刊论文

Date of Publication:2015-04-20

Journal:电加工与模具

Included Journals:ISTIC

Issue:2

Page Number:29-32,37

ISSN No.:1009-279X

Key Words:UV-LIGA;微坑阵列;电化学刻蚀;酸洗

Abstract:采用负胶光刻工艺制备了微坑阵列胶模，通过实验分析了抛光工艺对刻蚀均匀性的影响，解决了微坑阵列刻蚀缺陷的问题。研究了酸洗对基板刻蚀的影响，得出酸洗可改善刻蚀均匀性的结论，并通过调节溶液pH值的方法解决了溶液沉淀的问题。分析了掩膜孔径对刻蚀均匀性的影响，并利用自行搭建的电化学刻蚀装置完成了直径60μm、深11μm的微坑阵列刻蚀。实验结果验证了掩膜电化学刻蚀工艺的可行性，为金属表面微小图形的制作提供了一种可行的方案。