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Indexed by:会议论文
Date of Publication:2013-08-15
Page Number:318-318
Key Words:流体模拟;外界输入;放电模式;薄膜制备;均匀性;大小对;匹配网络;串联电容;线圈电流;电流比;
Abstract:引言感性耦合等离子体具有等离子体密度高,放电气压低,装置简单,均匀性好等优点,因此在工业上得到了广泛应用。ICP源具有两种放电模式,E模式和H模式,随着外界输入参数的变化,会发生明显的模式跳变,从而引起等离子体特性发生突变,对等离子体刻蚀和薄膜制备工艺产生重要的影响。因此,系统研究ICP的模式跳变行为具有重要的指导意义。
