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个人信息Personal Information
教授
博士生导师
硕士生导师
性别：男
毕业院校：清华大学
学位：博士
所在单位：控制科学与工程学院
学科：微电子学与固体电子学. 凝聚态物理. 控制理论与控制工程
电子邮箱：dwang121@dlut.edu.cn
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Interface characteristic and performance optimization mechanism for HfOx-based RRAM devices
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发表时间：2024-10-19
发表刊物：Applied Surface Science
卷号：680
ISSN号：0169-4332
关键字：CMOS integrated circuits; Hafnium oxide-based resistive random access memory; Hafnium oxides; Interface characteristic; Interfaces state; Interface state density; Interface states; Nonvolatile storage; Oxide interfaces; Performance; Random access memory; Series resistances; State resistance; State-time; Static random access storage