大连理工大学主页平台管理系统秦福文--中文主页-- Influence of Argon/Hydrogen ratio on the characteristics of boron-doped nc-Si:H films

秦福文

访问量：

开通时间：..

最后更新时间：..

当前位置: 中文主页 >> 科学研究 >> 论文成果

Influence of Argon/Hydrogen ratio on the characteristics of boron-doped nc-Si:H films

点击次数：

论文类型：会议论文

发表时间：2011-01-01

上一条：Influence of N-2 flux on the improvement of highly c-oriented GaN films on diamond substrates

下一条：Crystallography and cathodoluminescence of ultra-long GaN