大连理工大学主页平台管理系统秦福文--中文主页-- Chemical and electronic passivation of 4H-SiC surface by hydrogen-nitrogen mixed plasma (vol 104, 202101, 2014)

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Chemical and electronic passivation of 4H-SiC surface by hydrogen-nitrogen mixed plasma (vol 104, 202101, 2014)

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论文类型：期刊论文

发表时间：2014-06-30

发表刊物：APPLIED PHYSICS LETTERS

收录刊物：SCIE

卷号：104

期号：26

ISSN号：0003-6951

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