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论文类型：期刊论文

发表时间：2005-03-01

发表刊物：物理学报

收录刊物：Scopus、SCIE、PKU、ISTIC、CSCD

卷号：54

期号：3

页面范围：1378-1384

ISSN号：1000-3290

关键字：等离子体;金属薄膜/非磁性;磁控溅射;磁镜

摘要：为了研究非平衡磁控溅射沉积系统的等离子体特性,采用常规磁控溅射靶和同轴约束磁场构成非平衡磁控溅射沉积系统.在放电空间不同的轴向位置,Ar放电,0.2Pa和150V偏压条件下,采用圆形平面离子收集电极,测量不同约束磁场条件下的饱和离子束流密度.研究结果表明,在同轴磁场作用下,收集电极的离子束流密度能达到饱和值9mA/cm2左右,有利于在沉积薄膜的过程中产生离子轰击效应.根据磁流体理论分析了同轴约束磁场形成的磁镜效应和对放电过程的影响机理.实验与模型计算结果的比较表明,模型从理论上表达了同轴磁场约束对非平衡磁控溅射等离子体特性的影响规律.